鐳射熔覆

鐳射熔覆

鐳射熔覆是指以不同的填料方式(同步送粉或預置粉末)在被塗覆基體表面上放置所選擇的塗層材料▩✘,利用高能鐳射束輻照▩✘,塗層材料與基體材料成冶金結合▩✘,從而顯著改善基體材料表面的耐熱▩↟、耐蝕▩↟、耐磨▩↟、抗氧化等特性↟◕。
  • 型號/規格
  • 樣品編號 3
  • 產品價格 面議

詳細介紹


詳細引數

執行環境

內容

引數

供電電壓

220V

整機功耗

5000W(含冷水機)

安放環境

平整▩↟、無振動▩↟、無衝擊

工作環境溫度

0℃~40℃

工作環境溼度

≤80%

光學引數

內容

引數

連續輸出功率

>3000 W

中心波長(nm)

800-1100

工作距離(mm)

>300

光斑尺寸(mm)

1.5×16

冷卻方式

水冷

機械臂引數

內容

引數

型號

M20iA(可選配)

重量(Kg)

20kg

半徑(mm)

1811mm

重複精度(mm)

±0.08

變位器引數

旋轉半徑(mm)

1200

旋轉速度(m)

0-20轉(可連續可調)

旋轉功率(w)

3000

工作長度(mm)

200-3000(可連續可調)

承重(kg)

2600

變位器旋轉平臺

2000

行走導軌(mm)

2000

行走導軌功率(w)

2000(直流)伺服電機

鐳射熔覆概述

鐳射熔覆是一種表面改性技術▩✘,又稱鐳射熔敷或鐳射包覆↟◕。鐳射熔覆透過在基材表面新增熔覆材料▩✘,並利用高能密度的鐳射束使之與基材表面薄層一起熔凝的方法▩✘,在基層表面形成與其為冶金結合的添料熔覆層↟◕。
具體來說鐳射熔覆技術是指以不同的添料方式在被熔覆基體表面上放置被選擇的塗層材料經鐳射輻照使之和基體表面一薄層同時熔化▩✘,並快速凝固後形成稀釋度極低▩✘,與基體成冶金結合的表面塗層▩✘,顯著改善基層表面的耐磨▩↟、耐蝕▩↟、耐熱▩↟、抗氧化及電氣特性的工藝方法▩✘,從而達到表面改性或修復的目的▩✘,既滿足了對材料表面特定效能的要求▩✘,又節約了大量的貴重元素↟◕。
鐳射熔覆技術是一種經濟效益很高的新技術▩✘,它可以在廉價金屬基材上製備出高效能的合金表面而不影響基體的性質▩✘,降低成本▩✘,節約貴重稀有金屬材料↟◕。與堆焊▩↟、噴塗▩↟、電鍍和氣相沉積相比▩✘,鐳射熔覆具有稀釋度小▩↟、組織緻密▩↟、塗層與基體結合好▩↟、適合熔覆材料多▩↟、粒度及含量變化大等特點▩✘,而且可控性好▩✘,可實現三維自動加工▩✘,加工質量高↟◕。因此▩✘,鐳射熔覆技術應用前景十分廣闊▩✘,而且世界上各工業先進國家對鐳射熔覆技術的研究及應用都非常重視

鐳射熔覆工藝

  • 按熔覆材料的供給方式鐳射熔覆工藝大概可分為兩大類▩✘,即預置式鐳射熔覆和同步式鐳射熔覆↟◕。
  • 預置式鐳射熔覆是將熔覆材料事先置於基材表面的熔覆部位▩✘,然後採用鐳射束輻照掃描熔化▩✘,熔覆材料以粉▩↟、絲▩↟、板的形式加入▩✘,其中以粉末的形式最為常用↟◕。
  • 同步式鐳射熔覆則是將熔覆材料直接送入鐳射束中▩✘,使供料和熔覆同時完成↟◕。熔覆材料主要也是以粉末的形式送入▩✘,有的也採用線材或板材進行同步送料↟◕。
  • 預置式鐳射熔覆的主要工藝流程為₪·↟◕☁:基材熔覆表面預處理---預置熔覆材料---預熱---鐳射熔化---後熱處理↟◕。
  • 同步式鐳射熔覆的主要工藝流程為₪·↟◕☁:基材熔覆表面預處理---送料鐳射熔化---後熱處理↟◕。
  • 按工藝流程▩✘,與鐳射熔覆相關的工藝主要是基材表面預處理方法▩↟、熔覆材料的供料方法▩↟、預熱和後熱處理↟◕。

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